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抛光液又称化学机械研磨液，由纳米级研磨颗粒和高纯化学品组成，是化学机械抛光工艺过程中使用的重要化学资料
。

抛光液在CMP技术中至关沉要，在抛光资猜中价值占比约50%，其耗用量随着晶圆产量和CMP平展化工艺步骤数增长而增长
。

凭据利用的分歧工艺环节，能够将抛光液分为硅/多晶硅抛光液，浅槽隔离（STI）抛光液，金属栅极抛光液，介电资料（二氧化硅、氮化硅）抛光液，钨抛光液，铜及铜反对层抛光液，以及用于三维集成的硅通孔（TSV）和混合键合抛光液等
。

抛光液特点为种类繁多，即便是统一技术节点凭据分歧客户的工艺技术要求也有分歧配方，其重要原料蕴含纳米磨料、各类增长剂和超纯水
。其中，纳米磨料是决定抛光液机能的关键原料，重要蕴含硅溶胶和氧化铈等品类，约占抛光液价值的三分之一
。

得益于整个半导体行业及半导体资料的迅速增长，全球抛光液市场出现急剧增长态势
。2021年全球抛光液市场规模18.9亿美元，同比增长13%，其中铜抛光液、钨抛光液和氧化物抛光液的市场规模占比最大，而钴抛光液和多晶硅抛光液则成为增长最快的抛光液品类
。

近年中国抛光液市场增速显著高于全球市场，2025年国内抛光液市场有望占全球市场的25%，达40亿元，2022-2025年中国抛光液复合增长率达15%
。

内容节选自j9国际站颁布的《中国抛光液行业市场调研与投资战术汇报（2023版）》，如有需要，联系j9国际站010-67280121